ASML(ASML.US)三季度交付10台EUV光刻机，净利润高达11亿欧元

日前，业内领先的半导体设备供应商ASML(ASML.US)发布了公司2020年第三季度的财报。财报显示，净销售额(net sales)金额为40 亿欧元，净利润金额(net income)为11 亿欧元，毛利率(gross margin)达到47.5%。从订单上看，公司在第三季度新增订单(net booking)金额为29 亿欧元。

据该公司首席执行官Peter Wennink 介绍，ASML在第三季度一共交付了10 台EUV 系统，并在本季度实现了14 台系统的销售收入。而在第三季度的新增订单达到29 亿欧元，其中5.95 亿欧元来自4 台EUV 设备。从这个说明我们可以看到，ASML EUV光刻机的售价约为1.48亿欧元，折合人民币11.74亿元。

从上图可以看到，EUV光刻机占公司营收的比重，从上个月的39%跃升到本月的66%。而从终端用户的数据来看，这些购买者主要集中在logic方面的客户方面。而从该地区上看，中国台湾地区贡献的营收从上季度21%提升到本季度的47%，由此可以见到，这主要是由台积电采购EUV光刻机引发的转变。

与此同时，韩国贡献的营收正在下降，从中可以看出点端倪，也能理解为何三星的高管最近去荷兰拜访ASML总部，相信是为了争取更多的光刻机。

在谈到第四季度的预测，ASML方面表示，我们期待第四季度的销售额将在36 亿欧元到38 亿欧元之间，毛利率约在50%。研发成本约5.5 亿欧元，销售及管理费用约1.4 亿欧元。我们将实现2020 年全年的销售预期。预估2020 年度有效税率在14%左右。

在发布EUV财务数据的同时，ASML还带来了两款新设备，分别是DUV领域的TWINSCAN NXT:2050i和EUV领域的TWINSCAN NXE：3600D。

ASML进一步指出，NXT：2050i 基于NXT 平台的新版本，其中包括掩模版工作台，晶圆工作台，投影物镜和曝光激光器的技术改进。由于这些创新，该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生产率。

他们也表示，在EUV 光刻业务领域，公司绝大部分TWINSCAN NXE:3400B 系统在客户处同时进行了生产率模组的升级。而TWINSCAN NXE：3600D 则是公司EUV 路线图上的新机型，30 mJ / cm2 的曝光速度达到每小时曝光160 片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1 纳米。根据计划，他们将于2021 年的中期开始发货。

据相关资料显示，目前，ASML已经投产的最先进光刻机是3400C，但主力出货型号是3400B。参数方面，3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小时可曝光125片晶圆。

(本文编辑：孙健一）