上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公开

【上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公开】财联社11月28日电，上海微电子装备（集团）股份有限公司今日公开了其最新的光刻机相关专利。据天眼查显示，上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。该专利摘要显示，本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。 其中，所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称，所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称，所述投影物镜光学系统是对称结构，且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度，以此可以在提高成像质量的基础上，增大曝光系统的视场尺寸，提升产率。 从上海微电子的主要股东信息来看，A股上市公司上海电气持有公司42.3%的股份，张江高科全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司持有公司14.21%股份。