清溢光电:使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量

清溢光电:使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量

【清溢光电:使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量】财联社4月30日电,清溢光电在互动平台表示,使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量,但不会机械式增加太多,具体增加数量依据客户自身工艺而定。

亲爱的凤凰网用户:

您当前使用的浏览器版本过低,导致网站不能正常访问,建议升级浏览器

第三方浏览器推荐:

谷歌(Chrome)浏览器 下载

360安全浏览器 下载