三星平泽P4最新进展:PH1变身NAND/DRAM混合工厂 PH2用途待定

三星平泽P4最新进展:PH1变身NAND/DRAM混合工厂 PH2用途待定

【三星平泽P4最新进展:PH1变身NAND/DRAM混合工厂 PH2用途待定】《科创板日报》25日讯,三星电子平泽第四园区工厂(P4)第二期(PH2)和第四期(PH4)的投资步伐正在加快。预计总投资约7万亿韩元的外部建设将于今年下半年正式启动。PH1最初设计为NAND闪存工厂,现已转变为同时生产NAND和10纳米级第四代(1a)DRAM的混合工厂,目前设备安装已进入收尾阶段。三星电子内部仍在讨论是将PH2用作DRAM生产基地,还是将其改造成混合晶圆厂。

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